当社について

当社は、グラフェンの製造と応用の基礎となる「グラフェンプラットフォームアーキテクチャ」を開発し、グラフェンの工業化をサポートするための基本的な技術と知的財産、品質のグラフェン製品をパートナーと顧客に提供いたします。

沿革

2000年12月 会社設立
2006年1月 世界初ナノインプリント量産技術に対し、国際会議 nanotech 2006において、ナノテクノロジー大賞を受賞
2012年9月 グラフェンR&Dセンターを東工大横浜ベンチャープラザ内に設立
2012年11月 Cambridge Graphene Platform Ltd.を英国ケンブリッジに設立
2012年11月 英国ケンブリッジエンタープライズ(ケンブリッジ大学)が当社に資本参加
2015年10月 日本において、グラフェンの製品特許取得
2015年12月 シンガポールに Graphene Initiative Pte. Ltd. を設立
2016年8月 米国において、グラフェンの製品特許取得
2016年12月 中国において、グラフェンの製品特許取得
2017年4月 英国において、グラフェンの製品特許取得