グラフェン関連装置

CVDグラフェン成膜装置


 GP-CVD

※基板の取扱い、装置の操作、プロセスの最適化など、運転には習熟が必要となります。

高品質単層グラフェンシートが大面積で成膜でき、世紀の新素材と言われるグラフェンを使用した様々な適用デバイス開発が可能となるグラフェン成膜装置です。

熱式CVD装置の主な特徴

大面積シート

基板に銅箔を用いた独自のレシピにより、大きな面積に高品質グラフェンを成膜することが出来ます。

均一な単層膜

無欠陥(ラマンスペクトル Dピークがない)グラフェンの膜が成膜できます。その時、95%以上のエリアが単層膜で、残りの5%は2層、3層になります。

独自レシピによる安定成膜

大面積のグラフェン成膜に特化した独自のレシピで、温度・圧力・ガス量をコントロールし、安定した品質のグラフェン膜が得られます

操作パネル

  • 各バルブ、温度制御などはビジュアル的に操作可能です。また、インターロックも付いており、操作ミスによる装置破損を防止します。
  • 自動運転モード(オプション)では、レシピのプログラムが可能で、昇温から冷却まで、全てを自動で行います。

装置仕様

型式 GP-CVD4 GP-CVD6
管状炉 炉心管サイズ
(mm)
φ100 φ150
加熱温度
(℃)
~1000
供給ガス種 H2 CH4 Ar (+予備ポート1個付)
制御 温度制御 自動フィードバック制御
圧力制御
操作パネル 各機器スイッチ、プログラム温度計、真空計
表示機: 温度、真空度、作動機器、電源
自動運転モード(オプション)
電源 単層220V 三相220V
消費電力 3KVA 5KVA
冷却水 1L/min 市水または工業用循環冷却水
概略寸法(mm) W1,750×D750×
H1,585
W2,000×D1,000×
H1,700
概略重量(kg) 200 300
  • 水素、メタン、アルゴンなどのガス供給設備、冷却水の取排水設備は付属しません。
    装置納入日までに近くまで配管工事等を行ってください。
  • 当社では、装置電源から配電盤までのケーブル接続は、行っておりません。
    お客様(の配電業者)にて、装置納入日までに近くまで工事を行ってください。
  • 原則として、装置への繋ぎこみ(ガス、冷却水、電源等)は、お客様にてお願いしております。
  • 装置納入日に装置の立上げ作業も行います。当日に、繋ぎこみが完了するよう手配願います。
  • 納入日と立上日が異なる場合、作業員派遣のため別途費用がかかります。
  • 装置価格には下記のものが含まれます。
    • 基本成膜レシピ
    • 基本成膜トレーニング
    • グラフェン専用銅箔 A4サイズ 10枚
    • インナー石英管 3本
  • 仕様は予告なく変更することがございます。
  • メールでのお問い合わせ
    装置に関するご質問、お見積依頼がございましたら、下記フォームより、お問い合わせください。
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